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Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM

簡要描述:Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM
鍍膜在1030±30 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值,50 fsec脈沖,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-19
  • 訪  問  量:923

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM


Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM

鍍膜在1030±30 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值,50 fsec脈沖,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

產品介紹

Ø在1030±30 nm處鍍膜

Ø激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm

Ø由UVFS或BK7制造

Ø提供25.4或50.8mm尺寸

具有高激光損傷閾值的高反射率(R> 99.7%)電介質鍍膜被應用在激光后視鏡上。建議將UVFS基板用于高功率激光應用。背面可以鍍增透膜,可根據要求避免從二表面反射回來。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

產品型號

BK7 Rear Mirrors at 1030 nm

型號

材料

尺寸

波長

基材

半徑

032-1030-i0

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-plano

012-8005

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-50 mm

012-8010

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-100 mm

012-8015

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-150 mm

012-8020

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-200 mm

012-8025

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-250 mm

012-8050

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-500 mm

012-8100

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-1000 mm

012-8200

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2000 mm

012-8250

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2500 mm

012-8400

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-4000 mm

012-8500

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-5000 mm

012-9010

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

100 mm

012-9020

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

200 mm

012-9050

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

500 mm

012-9100

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

1000 mm

012-9200

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

2000 mm

012-9400

BK7

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

4000 mm

035-1030-i0

BK7

ø50.8 x 8 mm

1030±30 nm

Plano-plano

015-8005

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-50 mm

015-8010

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-100 mm

015-8015

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-150 mm

015-8020

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-200 mm

015-8025

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-250 mm

015-8050

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-500 mm

015-8100

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-1000 mm

015-8200

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2000 mm

015-8250

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2500 mm

015-8400

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-4000 mm

015-8500

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-5000 mm

015-9010

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

100 mm

015-9020

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

200 mm

015-9050

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

500 mm

015-9100

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

1000 mm

015-9200

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

2000 mm

015-9400

BK7

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

4000 mm

UVFS Rear Mirrors at 1030 nm

型號

材料

尺寸

波長

基材

半徑

042-1030-i0

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-plano

022-8005

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-50 mm

022-8010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-100 mm

022-8015

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

 
           

022-8020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-200 mm

022-8025

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-250 mm

022-8050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-500 mm

022-8100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-1000 mm

022-8200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2000 mm

022-8250

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2500 mm

022-8400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-4000 mm

022-8500

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-5000 mm

022-9010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

100 mm

022-9020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

200 mm

022-9050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

500 mm

022-9100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

1000 mm

022-9200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

2000 mm

022-9400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

1030±30 nm

Plano-convex

4000 mm

045-1030-i0

UVFS

ø50.8 x 8 mm

1030±30 nm

Plano-plano

025-8005

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-50 mm

025-8010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-100 mm

025-8015

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-150 mm

025-8020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-200 mm

025-8025

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-250 mm

025-8050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-500 mm

025-8100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-1000 mm

025-8200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2000 mm

025-8250

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-2500 mm

025-8400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-4000 mm

025-8500

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-concave

-5000 mm

025-9010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

100 mm

025-9020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

200 mm

025-9050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

500 mm

025-9100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

1000 mm

025-9200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

2000 mm

025-9400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

1030±30 nm

Plano-convex

4000 mm

 

基材

材料

UV級熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面質量

簡單拋光

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術

電子束多層電介質

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

入射角

0-8°(正常)

鍍膜

硬電介質高反射率R> 99.8%

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。

EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

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