詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
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組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE零級雙波長波片
Eksma FEMTOLINE零級雙波長波片
這些零級雙波長板用于Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器。
EKSMA OPTICS為Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器提供零級雙波長板。當光軸旋轉45度以輸入偏振時,零級雙波長波片將基本波長旋轉90度,而二次諧波波長的偏振保持不變。
型號 | 描述 | 增透膜 | 激光損傷閾值 | 應用 |
465-4211 | optically contacted; λ/2@800 nm + λ@400 nm | 800+400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical | Ti:Sapphire |
466-4211 | air-spaced; λ/2@800 nm + λ@400 nm | 800+400 nm | 100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical | Ti:Sapphire |
465-4212 | optically contacted; λ/2@1030 nm + λ@515 nm | 1030+515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical | Yb:KGW/KYW |
466-4212 | air-spaced; λ/2@1030 nm + λ@515 nm | 1030+515 nm | 100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical | Yb:KGW/KYW |
材料 | 單晶石英 |
光軸 | 垂直于緩速器圓周上的刻面 |
通光孔徑 | Ø17mm |
環安裝外徑 | 25.4mm+ 0.0 / -0.12mm |
表面質量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm |
平行性 | <10弧秒 |
增透膜 | R <0.5% |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。
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