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Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

簡要描述:Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2
具有ø10 mm透明光圈的電動可變衰減器,可以連續改變出射的s-pol和p-pol光束的強度比。 衰減器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光機械組成。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-19
  • 訪  問  量:884

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

990-0071M


Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

具有ø10 mm透明光圈的電動可變衰減器,可以連續改變出射的s-pol和p-pol光束的強度比。 衰減器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光機械組成。

產品介紹

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉平臺960-0161中。可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數。

可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

 

注意:控制器和電源應單獨訂購。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產品型號

適用于Nd:YAG激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-355M

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-355M+CP

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-532M

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-532M+CP

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-1064M

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-1064M+CP

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

 
    

飛秒應用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-257M

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257M+CP

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266M

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266M+CP

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343M

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343M+CP

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400M

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400M+CP

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400BM

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400BM+CP

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515M

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515M+CP

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515BM

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515BM+CP

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800M

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800M+CP

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800BM

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800BM+CP

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030M

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030M+CP

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030BM

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030BM+CP

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

適用于高功率飛秒應用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-257HM

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257HM+CP

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266HM

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266HM+CP

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343HM

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343HM+CP

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HM

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HM+CP

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HBM

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HBM+CP

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HM

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HM+CP

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HBM

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HBM+CP

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HM

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HM+CP

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HBM

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HBM+CP

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HM

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HM+CP

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HBM

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HBM+CP

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

適用于Nd:YAG激光應用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

 

飛秒應用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

大功率激光應用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉平臺960-0161中。可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數。

可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。 

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉平臺960-0161中。可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數。

可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

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