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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。
產品介紹
?將激光束分為兩束手動調節的強度比，以68°角分開
?大動態范圍
?透射光束偏移?0.5毫米
?高光學損傷閾值
?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％
?反射光束的衰減范圍：5％-99.5％
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中，該偏振片在反射56°的S偏振光同時透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數。可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
注意：實心基座高度擴展器820-0210和標準桿820-0020-20應單獨訂購。
產品型號
適用于Nd：YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-355 | 355 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-532 | 532 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257 | 257 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266 | 266 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343 | 343 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400 | 400 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400B | 390-410 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515 | 515 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515B | 505-525 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800 | 800 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800B | 780-820 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030 | 1030 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030B | 1010-1050 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于高功率飛秒激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257H | 257 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266H | 266 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343H | 343 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400H | 400 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400HB | 390-410 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515H | 515 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515HB | 505-525 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800H | 800 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800HB | 780-820 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030H | 1030 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030HB | 1010-1050 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于Nd：YAG激光應用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
偏振對比 | >1:200 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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