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Eksma 高透射率的雙反射鏡

簡要描述:Eksma 高透射率的雙反射鏡
IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98%。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:863

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 高透射率的雙反射鏡

IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98%。

Ø用于高功率激光器的IBS鍍膜

Ø激光損傷閾值> 10 J / cm2,脈沖為8納秒,典型值為1064 nm

Ø背面防反射鍍膜

Ø透射波長T> 98%

Eksma 高透射率的雙反射鏡

產品型號

型號

材料

反射波長

透射波長

AOI

直徑

厚度

041-6800HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

ø 12.7 mm

3 mm

042-6800HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

ø 25.4 mm

6 mm

041-6805HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

45°

ø 12.7 mm

3 mm

042-6805HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

45°

ø 25.4 mm

6 mm

041-6200HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

ø 12.7 mm

3 mm

042-6200HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

ø 25.4 mm

6 mm

041-6202HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

22.5°

ø 12.7 mm

3 mm

042-6202HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

22.5°

ø 25.4 mm

6 mm

041-6205HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

45°

ø 12.7 mm

3 mm

042-6205HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

45°

ø 25.4 mm

6 mm

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S2表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25mm

平行性

30角秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術

離子束濺射(IBS)

激光損傷閾值

>10 J/cm2, 8 ns pulse, 1064 nm

背面防反射鍍膜

R<0.1% at AOI=0°
R<0.25% at AOI=45°

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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